+886-3-5590169
+886-3-5574282
info@syskey.com.tw

Продукты

Термическое ALD

Установка атомно-слоевого осаждения представляет собой метод парофазного химического осаждения. Это один из способов химического осаждения из газовой фазы. В большинстве реакций ALD в качестве прекурсоров используются два химических вещества. Эти прекурсоры взаимодействуют с поверхностью материала непрерывным и самоограничивающимся образом. За счёт повторяемого взаимодействия с прекурсором медленно осаждается тонкая пленка. Для термического атомно-слоевого осаждения требуются относительно высокие температуры (обычно 150-350 °С). 

Установка от компании Syskey может контролировать процесс ALD,толщину пленки, а однородность составляет менее ±1%.

                     Кассетная ALD-обработка

 

Область применения Вакуумная камера
  • High-k оксиды для затвора МОП-транзистора.
  • Пассивация на кристаллическом кремнии солнечных панелей и OLED.
  • МЭМС.
  • Наноэлектроника.
  • Напыление нанопористых структур.
  • Оптические активные плёнки.
  • Корпусирование.
  • Камера из алюминия или нержавеющей стали малых габаритов для быстрого цикла.
  • Управление температурой камеры за счёт нагреваемого кожуха.

 

 

Конфигурации и преимущества Опции
  • Различный размер пластин диаметром до 300 мм.
  • Отличная равномерность плёнок - менее ±1%.
  • Высокая конформность с обработкой при высоком аспектном соотношении и сложных структурах.
  • До 6 источников прекурсоров с раздельным нагревом до 200 °C.
  • Быстрые импульсные клапана для доставки газа с временем отклика в 10 мс.
  • Нагрев подложки до 400 °C.
  • Материалы для напыления: Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2 , SiO2 , TiO2 , GaO2,AlN,SiN,Pt…
  • Интеграция со шлюзовой камерой (одиночная загрузка, кассета в кассету), перчаточной камерой.
  • Порты для спектроскопического эллипсометра.
  • Кластер для переноса подложек в вакууме.