電子束蒸發其電子束是由鎢絲所產生，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料，當電子與材料撞擊時，電子的動能將轉換成熱能，及加熱材料，使材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環境中，通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

超高真空環境為其真空壓力低於10的-8至10的-12 Torr，真空環境對於研究非常重要，表面應保持無污染並使用較低能量的電子和離子的實驗技術使用。

在半導體製程中，當遇到不易使用蝕刻方式來完成想要的電路圖案時，就可以採用 Lift-Off製程來做出想要的金屬圖案。在此過程中，電子束蒸發於在基板表面上沉積所需的薄膜層於犧牲層與基材上，最終在洗去其犧牲層，以得到其電路圖案。