電子束蒸發系統為一種物理氣相沉積（PVD）技術，其技術比熱蒸發更具有優勢。它能夠在非常高的溫度下熔化材料，如鎢、石墨...等等。結合石英震盪片的反饋信號，可輕鬆控制蒸發速率，以調節電子束電流並蒸發更多材料而不會破壞真空。

電子束蒸發其電子束是由鎢絲所產生，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料，當電子與材料撞擊時，電子的動能將轉換成熱能，及加熱材料，使材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環境中，通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

在半導體製程中，當遇到不易使用蝕刻方式來完成想要的電路圖案時，就可以採用 Lift-Off製程來做出想要的金屬圖案。在此過程中，電子束蒸發於在基板表面上沉積所需的薄膜層於犧牲層與基材上，最終在洗去其犧牲層，以得到其電路圖案。