電子束蒸發系統為一種物理氣相沉積（PVD）技術，其技術比熱蒸發更具有優勢。它能夠在非常高的溫度下熔化材料，如鎢、石墨...等等。結合石英震盪片的反饋信號，可輕鬆控制蒸發速率，以調節電子束電流並蒸發更多材料而不會破壞真空。

超高真空環境為其真空壓力低於10的-8至10的-12 Torr，真空環境對於研究非常重要，表面應保持無污染並使用較低能量的電子和離子的實驗技術使用。

在半導體製程中，當遇到不易使用蝕刻方式來完成想要的電路圖案時，就可以採用 Lift-Off製程來做出想要的金屬圖案。在此過程中，電子束蒸發於在基板表面上沉積所需的薄膜層於犧牲層與基材上，最終在洗去其犧牲層，以得到其電路圖案。