退火爐是用於製造半導體元件的製程方法。該製程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果。可以加熱晶片以激活摻雜劑，使沉積的膜緻密化，並改變生長的膜的狀態。暴露在高溫下可以修復損壞。該過程稱為退火。

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