+886-3-5590169
+886-3-5574282
info@syskey.com.tw

Продукты

Химическое осаждение с индуктивно-связанной плазмной

 

 

 

ICP-CVD Химическое осаждение из газовой фазы с индуктивно-связанной плазмой (ICP-CVD) позволяет за счёт плазмы обеспечить дополнительную энергию для реакции осаждения. По сравнению с PECVD, ICP-CVD может осаждать различные пленки при более низкой температуре без ухудшения качества пленки. Использование ICP в качестве источника плазмы имеет преимущества более высокой концентрации плазмы, более низких энергетических потерь, более высокой мощности и более высокой скорости реакции. Установка производства Syskey контролирует подачу газа и в режиме реального времени записывает системные данные (давление, температуру подложки), что позволяет получать высококачественные тонкие пленки.

 

     3 D Graphene


 

Область применения Вакуумная камера
  • Выращивание CNT и графена.
  • SiOx, SINx, a-Si, DLC и другие типы плёнок.
  • 2D материалы.
  • Защитные покрытия для медицинских и потребительских товаров.
  • Камера из алюминия или нержавеющей стали малых габаритов.
  • Управление температурой камеры за счёт использования чиллера/нагревателя.

 

Конфигурации и преимущества Опции
  • Различный размер пластин диаметром до 300 мм.
  • Рабочее давление в камере: 50 – 10-3 Торр.
  • РРГ с очень равномерным распределением газа – до 10 газовых линий.
  • Нагрев подложек до 700 °C со стабильным  температурным контролем.
  • ВЧ-согласующее устройство с широким диапазоном работы (от 50 Вт до 2 кВт)  удовлетворяет широкой области применений для клиента в режимах ICP-CVD.
  • Интеграция со шлюзовой камерой (одиночная загрузка, кассета в кассету), перчаточной камерой.
  • RPS для очистки камеры.
  • Оптический эмиссионный спектрометр.
  • Кластер для переноса подложек в вакууме.