Магнетронное напыление – это метод нанесения тонких пленок посредством распыления материала мишени в плазме магнетронного разряда.

Совместным называется одновременное магнетронное напыление с двух и более мишеней. Применяется для получения композитных материалов и компаундных сплавов.

Условия сверхвысокого вакуума крайне важны для научных исследований, поскольку эксперименты зачастую требуют обработки поверхностей высокой степени чистоты на все время процесса напыления.

Высококачественный многослойные пленки становятся все более важными при производстве высокоточных систем, где однослойные тонкие пленки уже не позволяют добиться требуемых характеристик.

Система конвейерного магнетронного напыления предназначена для автоматического перемещения подложек относительно одного или нескольких катодов для получения требуемых тонкопленочных покрытий.

Производительная и недорогая в обслуживании кластерная система. Оснащена четырьмя независимыми камерами напыления, что позволяет произвольно выбирать последовательность и параметры напыления слоев на дисплейные панели.

Материалы помещаются в нагреваемые тигели, испарение осуществляется в вакууме непосредственно на подложку. Конденсируясь на поверхности подложки, материал формирует тонкую пленку.

Источник использует электрический нагрев для испарения большинства существующих органических и неорганических материалов с наиболее распространенными характеристиками резистивного нагрева.

Процесс термического испарения органики предъявляет повышенные требования к толщине и однородности пленок, что достигается точным управлением температурой и скоростью осаждения.

Электронный луч генерируется в электромагнитном поле с помощью вольфрамовой нити. Под воздействием энергии луча материал источника испаряется и осаждается на поверхность подложки.

Система электронно-лучевого испарения использует электронный луч для нагрева, испарения и дальнейшего осаждения материала источника в виде тонкой пленки на подложку.

Условия сверхвысокого вакуума крайне важны для научных исследований, поскольку эксперименты зачастую требуют обработки поверхностей высокой степени чистоты на все время процесса напыления.

Взрывная литография (или Lift-Off) – это процесс создания рисунка на пластине, обратный травлению.

Осаждение из газовой фазы – это технология формирования тонких пленок из высокочистых материалов с особыми свойствами.

Применение плазмы расширяет технологические возможности и снижает рабочие температуры осаждения по сравнению с обычным методом осаждения из газовой фазы без потери качества пленок.

Пониженное давление применяется для того, чтобы снизить эффекты, возникающие при реакциях в газовой фазе, а также для того, чтобы повысить однородность по площади подложки.

метод плазмохимического осаждения с индуктивно связанной плазмой позволяет формировать тонкие пленки при меньших температурах без эффекта деградации и потерь качества.

С увеличением размера LCD-панелей и стеклянных дисплейных заготовок, растет потребность в оборудовании больших размеров, требующего более высоких инвестиций.